桌面型小型離子濺射儀分為低真空離子濺射和高真空離子濺射，根據(jù)原理又分為高電壓直流、低電壓磁控和離子束三種原理。

 

　　桌面型小型離子濺射儀工作時，接通高壓，陰極發(fā)射電子，電子能量增加到1-3kev，轟擊低真空中（3-10pA）的氣體，使其電離，激發(fā)出的電子在電場中被加速，繼續(xù)轟擊氣體，產(chǎn)生聯(lián)級電離，形成等離子體。

 

　　離子以1-3kev的能量轟擊陰極靶，當(dāng)其能量高于靶材原子的結(jié)合能時，靶材原子或者原子簇，脫離靶材，又經(jīng)過與等離子體中的殘余氣體碰撞，因此方向各異，當(dāng)落在樣品表面時，可以在粗糙的樣品表面形成厚度均一的金屬薄膜，而且與樣品的結(jié)合強(qiáng)度高。

 

　　如果工作室中的氣體持續(xù)流動，保持恒定壓力，這時的離子流保持恒定。高壓的功率決定了大離子流，一般有大離子流限制，用于保護(hù)高壓電源。

 

　　桌面型小型離子濺射儀操作注意事項(xiàng)：

 

　　1、一般工作距離可調(diào)，距離越近，濺射速度越快，但熱損傷會增加。

 

　　2、離子流的大小通過控制真空壓力實(shí)現(xiàn)，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結(jié)晶晶粒越粗，電子轟擊樣品（陽極）產(chǎn)生的熱量越高；真空度越高，I越小，濺射速度越慢，原子結(jié)晶晶粒越細(xì)小，電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量小。

 

　　3、加速電壓為固定，也有可調(diào)的，加速電壓越高，對樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區(qū)域。

 

　　4、有些熱敏樣品，需要對樣品區(qū)進(jìn)行冷卻，水冷或者帕爾貼冷卻；也可以采用磁控裝置，像電磁透鏡一樣把電子偏離樣品。經(jīng)過這樣的改造，當(dāng)然會增加很高的成本?？梢栽谑灡砻鏋R射一層金屬，而沒有任何損傷。

 

　　5、真空中的雜質(zhì)越多，鍍膜質(zhì)量越差。一般黃金比較穩(wěn)定，可以采用空氣作為等離子氣源，而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。