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小功率冷卻水循環(huán)機(jī)是一種在實(shí)驗(yàn)室、工業(yè)和商業(yè)應(yīng)用中廣泛使用的設(shè)備。它的主要功能是提供穩(wěn)定的冷卻水流，以維持設(shè)備或?qū)嶒?yàn)的溫度，確保其正常運(yùn)行?；竟ぷ髟硎峭ㄟ^(guò)壓縮機(jī)將制冷劑壓縮成高溫高壓氣體，經(jīng)過(guò)冷凝器冷卻后轉(zhuǎn)變?yōu)橐后w，再經(jīng)過(guò)膨脹閥降壓，最...

光纖鍍膜小型離子濺射儀是一種專(zhuān)用于光纖表面涂層和薄膜沉積的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于光電子、通訊、光學(xué)、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。離子濺射技術(shù)利用高能離子轟擊靶材，通過(guò)濺射效應(yīng)使靶材表面物質(zhì)釋放并沉積到基材上，形成薄膜。這種技術(shù)不僅可以精確控制薄膜的厚度和質(zhì)量，...

薄膜制備小型磁控濺射儀是一種利用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行薄膜制備的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。磁控濺射技術(shù)是一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，通過(guò)高能粒子撞擊靶材，將靶材原子或分子濺射出來(lái)并沉積到基底上，形成薄膜。隨著材料科學(xué)和微電子技術(shù)的快速發(fā)展，薄膜制備技...

磁控濺射是利用磁場(chǎng)增強(qiáng)的濺射效應(yīng)來(lái)制備薄膜的一種物理氣相沉積（PVD）方法。其基本原理是通過(guò)電場(chǎng)將離子加速，撞擊靶材表面，導(dǎo)致靶材原子或分子濺射出來(lái)，并沉積到基片表面形成薄膜。磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)包括較高的沉積速率、較好的薄膜均勻性及較強(qiáng)的附著力...

低溫濺射小型磁控濺射儀是一種物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，利用高能粒子轟擊靶材（一般是金屬或合金）表面，使靶材原子脫離并在基底表面沉積成薄膜。磁控濺射是在傳統(tǒng)濺射技術(shù)的基礎(chǔ)上，增加了磁場(chǎng)，以提高濺射效率和膜層的質(zhì)量。低溫濺射的優(yōu)勢(shì)：1.避免熱...

離子濺射是一種基于離子與固體表面碰撞的物理過(guò)程。當(dāng)高能離子（如氬離子）轟擊靶材表面時(shí)，靶材中的原子或分子受到?jīng)_擊力從表面彈出，產(chǎn)生濺射效應(yīng)。濺射出的原子或分子會(huì)沉積在其他表面形成薄膜或改變表面性質(zhì)。廣泛應(yīng)用于薄膜沉積、表面刻蝕、原子層沉積等...

冷濺射小型磁控濺射儀是一種用于薄膜材料沉積的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體工業(yè)、光電器件制造等領(lǐng)域。具有高精度、高沉積速率、低溫沉積等優(yōu)點(diǎn)，并能夠在不加熱基材的情況下進(jìn)行薄膜沉積，適合對(duì)溫度敏感的材料和基材進(jìn)行處理。作為一種高效、可靠的薄...

桌面型小型離子濺射儀是用于薄膜沉積、表面處理以及材料改性的一種先進(jìn)工具，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光學(xué)涂層、表面分析等領(lǐng)域。離子濺射技術(shù)通過(guò)利用離子束轟擊靶材，使靶材表面原子或分子被激發(fā)并濺射到基底表面，從而形成薄膜。與傳統(tǒng)的物理氣相沉積（PV...